calitate DLC depunere
DLC acoperiri pot fi depuse folosind o varietate de metode de depunere, cum ar fi pulverizare, fascicul de ioni, arc catodic, fascicul de electroni, lasere și PACVD. NCT depozitează acoperirile noastre cu diamant ca carbon folosind partenerul nostru tehnologia patentată a grupului HEF care combină PVD și PACVD, care depozitează unele dintre cele mai înalte calități și cele mai consistente acoperiri DLC disponibile industriei de astăzi.
această tehnologie permite ca acoperirile DLC să fie depozitate în mașini de producție la scară largă, fără a sacrifica calitatea filmului. Cu tehnologia brevetată HEF, avem capacitatea de a depune straturi PVD, precum și straturi pacvd dense și uniforme în același sistem. Procesul nostru va trece de la straturi PVD la straturi DLC producând perfect filme care prezintă o aderență excelentă a stratului intermediar, precum și o aderență excelentă la substrat. Procesul PACVD NCT utilizează va depune o acoperire DLC care nu va avea nici un efect vizibil asupra finisajului suprafeței produsului.
procesul de acoperire
produsul este plasat în camera de vid din oțel inoxidabil pe un carusel de fixare și camera este evacuată. Produsul este preîncălzit la o temperatură scăzută de procesare care nu va depăși (150 c) 300 F. faza de preîncălzire a procesului condiționează substratul pentru acoperire și va asigura că toată umiditatea absorbită de material a fost depășită înainte de începerea procesului de depunere.
după terminarea ciclului de preîncălzire, procesul trece în faza de gravare a ionilor, unde produsul este bombardat cu ioni din gaz de argon pentru a curăța sau pulveriza suprafața și a îndepărta micro oxizii. Această spălare a suprafeței cu ioni curăță suprafața și îmbunătățește aderența stratului de acoperire la substrat.
după ce substratul a fost curățat prin pulverizare, procesul trece în faza de acoperire. Dacă este necesar un strat inițial (strat de bază) pentru a îmbunătăți performanța produsului în utilizarea finală, procesul de pulverizare cu energie ridicată dezvoltat de Grupul HEF este utilizat pentru a depune un strat de bază neted dens bine aderent. Pe măsură ce stratul de acoperire atinge grosimea corespunzătoare, procesul trece în etapa de acoperire DLC care depune un strat dens, neted de carbon amorf hidrogenat(a-C:H) pe suprafața produsului.
substraturi
substraturi pot fi depuse pentru a îmbunătăți performanța acoperirii în anumite aplicații. 
a-C:H DLC diamant ca strat exterior de Carbon PVD
strat de acoperire strat de acoperire depus
dacă nu este necesar un strat de bază, un strat uniform dens de DLC poate fi depus direct pe substrat, de asemenea.
dens neted a-C:H DLC diamant ca
acoperire cu Carbon
faza de acoperire
în timpul fazei de acoperire DLC A procesului, un gaz care transportă carbon este introdus în cameră. Acest gaz este sursa pentru acoperirea DLC cu carbon amorf. Folosind tehnologia cam patentată de HEF, gazul care transportă carbonul introdus în cameră este ionizat de anozi auxiliari și suferă ceea ce se numește „crăpare” sau separarea hidrogenului și carbonului din gaz. Hidrogenul ionizat și atomii de carbon din gaz sunt atrași pe suprafața produsului cu o sarcină electrică care se aplică caruselului.
etapele finale
Caruselul care are sarcina electrică aplicată și transportă produsul care urmează să fie acoperit se rotește, de asemenea, în cameră și atrage ionii ionizați de carbon/hidrogen la suprafața produsului care formează filmul amorf de carbon sau diamant.
rotația caruselului care transportă produsul în cameră poate fi o rotație cu o singură, dublă sau triplă axă, în funcție de complexitatea geometriei produsului și de uniformitatea de acoperire necesară. Acest lucru permite depunerea unei pelicule uniforme pe suprafața produsului, spre deosebire de procesele convenționale de placare.
proprietățile filmului, structura, duritatea și substraturile pot fi reglate pentru a produce o acoperire optimizată pentru cerințele unui client.